一、清洗原理
結(jié)合需清洗材料的不同屬性,通入不同的反應(yīng)氣體,在真空、放電等特殊場合下產(chǎn)生等離子體。
在密閉容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成磁場,用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度,隨著氣體越來越稀薄,分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越來越遠(yuǎn),受電磁場的作用,發(fā)生碰撞而形成等離子體。
同時(shí)輝光放電,等離子體在電磁場內(nèi)空間運(yùn)動(dòng),對被清洗材料表面進(jìn)行“轟擊”,改變材料表面性質(zhì)(清潔/粗化/刻蝕材料表面),增加表面活化能,提高表面附著力。
通過等離子清洗機(jī)進(jìn)行表面處理, 提升工藝過程中材料的“結(jié)合”強(qiáng)度,進(jìn)一步提高產(chǎn)品性能和良率,對人體、材料及環(huán)境不產(chǎn)生危害。
二、應(yīng)用行業(yè)
主要應(yīng)用于半導(dǎo)體(LED/IC/PCB)、3C類消費(fèi)電子(手機(jī)、筆記本電腦)、航空、塑膠、汽車、生物醫(yī)學(xué)、五金等生產(chǎn)制造領(lǐng)域。
三、產(chǎn)品信息 (可選配)
(一)主要技術(shù)參數(shù):
1.整機(jī)外形尺寸: 1250mm(W)×1850mm(H)×1340mm(D),外觀噴塑處理。
2.反應(yīng)倉尺寸:600mm(W)×600mm(H)×600mm(D);
電極載物板面積:460mm(W) ×530mm(D);
電極載物板層數(shù):2~11層可調(diào)。
3.電源:主系統(tǒng)電源: 380×(1±10%)V(AC) 50Hz~60Hz 三相五線。
4.等離子體頻率:射頻(13.56MHz)/中頻(40K Hz、80K Hz、100K Hz)。
5.等離子電源功率:射頻0~600W(可選配0~1000W)/中頻0~1000W連續(xù)可調(diào)。
6.設(shè)備功率:≤5kW。
7.控制方式:采用包括觸摸屏人機(jī)界面的PLC控制,操作方式包括自動(dòng)模式和手動(dòng)模式。在自動(dòng)模式下將不同工藝參數(shù)按照配方方式管理,可同時(shí)存儲50組不同的配方。使用時(shí)只需要將相應(yīng)配方號調(diào)出即可。設(shè)備參數(shù)分級管理,設(shè)備操作員、工藝人員、維護(hù)人員使用不同口令管理不同參數(shù),提高設(shè)備安全性。手動(dòng)模式用于實(shí)驗(yàn)工藝以及設(shè)備維護(hù)維修。
8.MFC質(zhì)量流量計(jì)控制:標(biāo)準(zhǔn)配置1路(可根據(jù)客戶需求選配2~3路)。
9.氣體流量:(0~300)ml/min (標(biāo)準(zhǔn)氣壓,0℃)。
10.工作氣體(氧、氬等)接口壓力:≤0.45MPa。
11.壓縮空氣(啟動(dòng)氣動(dòng)角閥)接口壓力:0.5Mpa。
12.凈化冷卻氣體(氮?dú)猓┙涌趬毫Γ?.45MPa。
13.設(shè)備工作節(jié)拍:單次清洗時(shí)間≤8min(反應(yīng)時(shí)間240S左右)。
14.工作真空度:10~150Pa。
(二)反應(yīng)倉:
1.反應(yīng)倉材質(zhì):采用高純度304不銹鋼定制,降低氧化生銹現(xiàn)象。
2.電極板(托盤)材質(zhì):采用鋁合金或高純度304不銹鋼定制,降低氧化生銹現(xiàn)象。
3.反應(yīng)倉后部安裝有銅電極座,水平電極板通過該接口鎖定,牢固可靠,更有助于射頻源的穩(wěn)定輸出。
4.倉體左右兩側(cè)安裝有側(cè)托,用于支撐電極板。
5.清洗對象的籃具置于電極板上,電極板通過銅帶與銅電極座相連。
6.本設(shè)備提供的清洗模式為直接等離子體模式,直接等離子體模式為陽、陰電極相間放置。
7.電極可以同時(shí)安放2組~13組任意組合。電極面積為460×530(mm),電極間距為2.5(cm)可調(diào)。
8.反應(yīng)倉真空平衡方面做了改進(jìn),平衡閥能夠迅速解壓(10~30秒內(nèi)),避免了長時(shí)間等待平衡時(shí)間,提高了生產(chǎn)效率。
(三)泵組:
1.我們推薦使用BSV60直聯(lián)式油旋片真空泵搭配BSJ150羅茨泵,泵組特點(diǎn):真空泵風(fēng)冷,羅茨泵水冷,抽速快,抗氧化,耐腐蝕,維護(hù)成本低,可降低溫度過高的散熱體系。完全解決了泵易氧化的問題。(可根據(jù)客戶需求選配其他品牌)。
2.耗電低,噪音小,使用壽命長。
3.泵體內(nèi)置于機(jī)柜內(nèi)部,使機(jī)器緊湊,占地面積小。
4.可根據(jù)客戶需求進(jìn)行選配。
(四)自動(dòng)控制系統(tǒng):
采用PLC進(jìn)行全程控制,性能穩(wěn)定,功能較全,人機(jī)界面友好,所有工藝參數(shù),工藝過程實(shí)時(shí)監(jiān)控,并顯示運(yùn)行狀態(tài)、報(bào)警記錄、工藝曲線記錄和工作時(shí)間記錄,權(quán)限等級,密碼管理等,方便維護(hù)保養(yǎng)。
(五)等離子電源:
1.為滿足在半導(dǎo)體工藝的高頻驅(qū)動(dòng)等離子系統(tǒng)的性能要求而采用的進(jìn)口固態(tài)半導(dǎo)體芯片的射頻/中頻電源,電源功率充足600w應(yīng)用域。其技術(shù)確保了超穩(wěn)定的輸出,此穩(wěn)定技術(shù)使功率放大性能得以優(yōu)化并降低由等離子阻抗波動(dòng)造成的功率增益變化(可根據(jù)客戶需求選配0~1000W)。
2.通過編碼器和軟鍵輸入實(shí)現(xiàn)Local控制。
3.標(biāo)準(zhǔn)R232接口和A/D控制。
4.在全控制和可編程微處理器作用下,可啟動(dòng)前面的控制面板。
5.控制電路確保了在高VSWR條件下的連貫性相比業(yè)界同類產(chǎn)品,我公司產(chǎn)品除以上重要組件具備相對優(yōu)勢以外,無論從其外觀設(shè)計(jì)到操作程序設(shè)計(jì),均貫穿了人性化的理念。設(shè)備的清洗時(shí)間、潔凈壓力、射頻功率、工藝氣體流量設(shè)定可調(diào),一鍵完成全自動(dòng)工藝,實(shí)時(shí)故障報(bào)警、非法操作提示、清洗結(jié)束提示等。自動(dòng)提醒系統(tǒng)維護(hù)、更換真空泵油等,避免機(jī)器過載、過老化情形下工作,延長使用壽命。
(六)場地要求:
1.電源:三相五線 單獨(dú)接地,接地電阻≤2Ω。應(yīng)使用截面積4mm2以上的接地銅線(建議使用單獨(dú)接地體,接地電阻必須≤2Ω。)將設(shè)備接至PE。
2.氣源:氮?dú)?0.45MPa 其它工作氣體(氧、氬、氫、氦等):≤ 0.45MPa壓縮空氣:0.5Mpa
3.真空泵排放氣管:鋼絲增強(qiáng)管,管徑(外徑)φ38mm。建議將排氣管接至室外,并且在排氣管路上設(shè)置防止水、油流回的裝置。
4.場地溫度:≤40℃
5.相對濕度:RH(35-65)%
(七)安全方面:
設(shè)備具有單獨(dú)接地裝置。對涉及用戶的產(chǎn)品制造工藝、設(shè)計(jì)工藝及用途保密。